摘要: 在PbO2中掺MnO2,用射频偏压溅射技术制成PbO2/MnO2半导体薄膜,有较好的高低温特性,用它首次制成了TLMM薄膜大容量电容器[1].用粉末溅射法制备了纯正化学状态的MnO2膜,已用于光电倍增管的制造.用ESCA和AES技术监测工艺过程中薄膜组分含量及化学状态,从而调整了工艺参数与靶材比率.
俞志中, 胡南山, 蔡炳初. PbO2/MnO2半导体薄膜工艺与ESCA/AES研究[J]. 应用科学学报, 1989, 7(1): 65-70.
YU ZHIZHONG, HU NANSHAN, CAI BINGCHU. PbO2/MnO2 SEMICONDUCTING THIN FILM TECHNOLOGY AND ITS ESCA/AES STUDY[J]. Journal of Applied Sciences, 1989, 7(1): 65-70.