摘要: 从等离子体发射光谱变化这一角度研究在不同沉积条件下等离子体中电子平均能量的特点,分析碳源气体分子与电子的碰撞以及碳氢基团的能态变化,从而对等离子体法沉积金刚石薄膜微观机理进行初步的探索。
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ZHOU MINGHUA, XI YIBEN, ZHANG XUBAI, WANG HONG. AN INVESTIGATION OF PLASMA SPECTRUM IN THE PROCESS OF DIAMOND THIN FILM DEPOSITED BY MPCVD[J]. Journal of Applied Sciences, 1995, 13(1): 35-38.