摘要: 用射频溅射和反应射频溅射方法分别制备了RE-TM磁光记录薄膜及其保护膜,并从膜面测量和背面测量两侧面分别研究了覆盖保护膜前后的RE-TM磁光盘材料的抗恶劣环境实验。RE-TM磁光盘材料样品的高温高湿老化实验和温度稳定性实验结果证明,覆盖AIN和AiN保护膜的TbFeCo磁光薄膜具有优异的抗高温高湿能力和优越的温度稳定性,因而具有很强的抗恶劣环境能力,可作为宽温磁光盘材料。
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