摘要: 在常规BiCMOS技术基础上,该文充分考虑了低温下MOS电流驱动能力增强、双极器件增益与频率性能退化、PN结正向导通电压增加和结电容减小等因素的影响,并由此建立起统一的低温BiCMOS数字电路延迟时间的非线性解析分析模型,所得到的有关结论对低温超高速BiCMOS电路的优化设计有现实的指导意义.
吴金, 魏同立. 低温超高速BiCMOS数字电路的延迟特性分析[J]. 应用科学学报, 1996, 14(4): 415-421.
Wu JIN, WEI TONGLI. DELAYTIME ANALYSIS FOR SUPER HIGH SPEED BICMOS DIGITAL CIRCUITS IN LOW TEMPERATVRE[J]. Journal of Applied Sciences, 1996, 14(4): 415-421.