硫脲加速和稳定化学沉积镍的机理

应用科学学报 ›› 1997, Vol. 15 ›› Issue (2): 229-233.

硫脲加速和稳定化学沉积镍的机理

韩克平, 方景礼

南京大学

收稿日期:1995-10-25 修回日期:1996-01-21 出版日期:1997-06-30 发布日期:1997-06-30
作者简介:韩克平:硕士,南京大学化学化工学院,南京 210093

ACCELERATION AND STABLIZATION MECHANISM OF ELECTROLESS NICKEL DEPOSITION BY THIOUREA

HAN KEPING, FANG JINGLI

Nanjing University, Nanjing 210093

Received:1995-10-25 Revised:1996-01-21 Online:1997-06-30 Published:1997-06-30

摘要/Abstract

摘要： 测定了硫脲对化学沉积镍的速度、析氢量、极化曲线和稳定电位的影响,并结合对沉积镍层的X射线光电子能谱(XPS)分析,探讨了硫脲对化学沉积镍过程的加速和稳定机理.

关键词: 化学沉积镍, 机理, 加速, 稳定, 硫脲

Abstract: Influences of thiourea on electroless nickel deposition rate, hydrogen evolution, polarization curves and stationary potential wore determined. Together with the X-ray photoelectron spectroscopy (XPS) analysis of the deposit. the mechanism for acceleration and stabilization of electroless nickel deposition by thio-urea has been discussed.

Key words: thiourea, eleotroless nickel deposition, acceleration, stabilization, mechanism

韩克平, 方景礼. 硫脲加速和稳定化学沉积镍的机理[J]. 应用科学学报, 1997, 15(2): 229-233.

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