氧化铝陶瓷/金刚石膜复合材料的表征及介电性质研究

应用科学学报 ›› 1998, Vol. 16 ›› Issue (3): 355-359.

氧化铝陶瓷/金刚石膜复合材料的表征及介电性质研究

莫要武, 夏义本, 辛吉升, 黄晓琴, 王鸿

上海大学

收稿日期:1996-09-19 修回日期:1997-01-09 出版日期:1998-09-30 发布日期:1998-09-30
作者简介:莫要武:博士,讲师,上海大学材料科学与工程学院,上海 201800
基金资助:
国家自然科学基金

Investigation of the Dielectric Properties and Characterization of Diamond Film/Alumina Composites

MO YAOWU, XIA YIBEN, XIN JISHENG, HUANG XIAOQIN, WANG HONG

School of Materials Science & Engineering, Shanghai University, Shanghai 201800

Received:1996-09-19 Revised:1997-01-09 Online:1998-09-30 Published:1998-09-30

摘要/Abstract

摘要： 采用MPCVD和HFCVD在氧化铝陶瓷基片上沉积金刚石薄膜.用扫描电镜(SEM)、X射线衍射(XRD)和Raman散射分析表征了沉积膜的质量,并测定和分析了氧化铝/金刚石膜复合材料的介电性质.

关键词: 薄膜, 氧化铝, 介电性质, 金刚石

Abstract: Diamond films were deposited on Al₂O₃ substrates by microwave plasma chemical vapor deposition (MPCVD) and hot filament chemical vapor deposition (HFCVD) techniques, respectively. The qualities of the deposited films were characterized by scanning electron microscopy(SEM), X ray diffractive spectrometry and Raman scattering spectrometry. The dielectric properties of the diamond film/alumina composites were measured and analyzed as well.

Key words: diamond, thin film, alumina ceramics, dielectric properties

莫要武, 夏义本, 辛吉升, 黄晓琴, 王鸿. 氧化铝陶瓷/金刚石膜复合材料的表征及介电性质研究[J]. 应用科学学报, 1998, 16(3): 355-359.

MO YAOWU, XIA YIBEN, XIN JISHENG, HUANG XIAOQIN, WANG HONG. Investigation of the Dielectric Properties and Characterization of Diamond Film/Alumina Composites[J]. Journal of Applied Sciences, 1998, 16(3): 355-359.

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