×
模态框(Modal)标题
在这里添加一些文本
关闭
关闭
提交更改
取消
确定并提交
×
模态框(Modal)标题
×
首页
期刊介绍
编委会
投稿指南
期刊订阅
征稿专栏
联系我们
English
硅与反应溅射二氧化硅界面特性的研究
张翔九, 胡际璜, 黄维宁, 姜国宝
INVESTIGATIONS OF THE CHARACTERISTICS OF THE INTERFACE BETWEEN SI AND REACTIVELY R.F.SPUTTERED SiO
2
ZHANG XIANGJIU, HU JIHUANG, HUANG WEINING, JIANG GUOBAO
应用科学学报 . 1983, (
4
): 313 -318 .