摘要: 系统地研究了二氧化硅薄膜驻极体的负表面电荷和正表面与体电荷受激脱阱后在体内的输运规律。并考察了这种驻极体的放电特性,化学表面处理对该驻极体的电荷稳定性及电荷层在体内的迁移规律的影响。充电后的适当老化程序,可使电荷重心从样品的自由面附近向体内迁移,由此导致的二氧化硅的体内负电荷具有极好的稳定性。这一结果对正在研制中的二氧化硅微型传感器的质量改善是十分重要的。
夏钟福, 吕美安, P Guenther, 施林生. 二氧化硅簿膜驻极体的电荷动态特性[J]. 应用科学学报, 1995, 13(1): 21-28.
XIA ZHONGFU, LU METAN, P Guenther, SHI LINSHENG. CHARGE DYNAMICS OF SILICON DIOXIDE ELECTRETS[J]. Journal of Applied Sciences, 1995, 13(1): 21-28.