摘要: 设计出一种适合PDP选址驱动芯片的HV-NDMOS结构,分析了该结构的防穿通特性.提出了实现PDP选址驱动芯片的工艺流程及其基本参数;同时提出了HV-PMOS的厚栅氧刻蚀方法——多晶硅栅自对准刻蚀.文中最后对流水出的芯片进行了测试分析,证明所设计的芯片确实能满足实际要求。
中图分类号:
吴建辉, 孙伟锋, 陆生礼. PDP选址驱动芯片的设计与实现[J]. 应用科学学报, 2003, 21(2): 187-192.
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